光刻材料中陰離子的測定
光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一。主要作用是將掩膜板上的圖形復制到硅片上,為下一步進行刻蝕或者離子注入工序做好準備。光刻的成本約為整個硅片制造工藝的 1/3,耗費時間約占整個硅片工藝的 40~60%。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、檢測等工序。光刻膠是一種經過嚴格設計的復雜、精密的配方產品,由樹脂、光引發劑、單體、添加劑等不同性質的原料,通過不同的排列組合,經過復雜、精密的加工工藝而制成。目前集成電路的集成水平已由原來的微米級水平進入納米級水平,為了匹配集成電路的發展水平,制備超凈高純試劑的純度也由 SEMI G1 逐漸提升到 SEMI G4 級水平,對雜質的檢驗能力要求也相應提高。
(1)陰離子
分析柱:SH-G-1+SH-AC-11
流動相:15 mM KOH(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35℃
抑制器:SHY-A-6
進樣體積:100 μL
前處理:稱取 2 g 樣品于 50 mL 樣品管中,加入 10 mL 去離子水,于 60℃水浴 1 h,取出冷卻至室溫,提取液過 0.22 μm 一次性針頭過濾器后進樣分析。
色譜測量數據
PC 中陰離子譜圖
色譜測量數據
PP 中陰離子譜圖
色譜測量數據
ABS 中陰離子譜圖
(2)陽離子
分析柱:SH-G-1+SH-CC-3L
流動相:6 mM MSA(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35℃
抑制器:SHY-A-6
進樣體積:100 μL
前處理:稱取 2 g 樣品于 50 mL 樣品管中,加入 10 mL 去離子水,于 60℃水浴 1 h,取出冷卻至室溫,提取液過 0.22 μm 一次性針頭過濾器后進樣分析。
色譜測量數據
PC 中陰離子譜圖
色譜測量數據
PP 中陰離子譜圖
色譜測量數據
ABS 中陰離子譜圖
Related Products
查看詳情
查看詳情
查看詳情
查看詳情
related news
昨天,3·15晚會曝光了“泰國香米”,以香精勾兌的“假香米”在市場泛濫,引起社會各界廣泛關注。正所謂“民以食為天”,與我們飲食息息相關的大米出了問題該如何是好? 據了解,我國《食品安全國家標準 食品添加劑使用標準》
9月21日,盛瀚被列入國家重點研發計劃重大科學儀器設備開發專項的“色譜質譜多功能高精度自動進樣器”項目課題績效評價會于海天劇院大酒店舉行,接受了北京大學劉虎威教授等9位來自各高校、科研院所、政府單位的專家驗收評審。
轉發有禮 轉發本活動到朋友圈并集贊20個 或者 100人以上行業or儀器相關群 免費送 禮品一份 包郵到家 10個名額 先到先得 轉發后記得截圖哦,截圖發送到“盛瀚色譜”微信公眾號,留言姓名、電話、單位及收
"民以食為天,食以安為先。"食品安全是當今社會關注的熱點話題之一,它直接關系到我們的身體健康和生命安全。食品在種植、生產、加工、儲存、運輸等環節中,容易遇到農藥殘留、真菌毒素、重金屬污染等問題,影響食品質量安全。
在生物醫藥領域,高效液相色譜系統(HPLC)已經成為一種不可或缺的分析工具。HPLC以其高分離效能、高靈敏度、高自動化等特點,廣泛應用于藥物分析、生物分子分離、蛋白質組學等領域。